基于四邊固支矩形膜結構的碳化硅(SiC)楊氏模量測量方法研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、SiC在高溫、強腐蝕、強輻射下仍具有出色的力學性能,是極端環(huán)境下MEMS器件的首選材料,楊氏模量是指導M EMS器件設計的重要物理參數。目前SiC的制備工藝還不成熟,工藝參數對SiC微結構的楊氏模量有很大的影響,不同工藝條件下生長的SiC,其楊氏模量差別較大。因此每種工藝參數生長SiC后,都要對該工藝條件下的楊氏模量進行重新測試,以指導其器件設計。一般微結構力學測量方法都要對材料進行加工,SiC化學性質十分穩(wěn)定,對其進行加工的成本較高、

2、時間較長。本文設計了一種通過測量SiC矩形膜的彈性系數的方法來測得SiC的楊氏模量E,無需對SiC進行刻蝕加工,能簡單、快速地對SiC的楊氏模量進行測量。具體來說,有以下幾個方面:
  1.理論基礎方面,基于偶應力理論,引入本征長度,研究了四邊固支矩形膜力學理論基礎,得到撓度、應力和楊氏模量的求解方法。此外,還研究了膜的長寬比、邊長、厚度對矩形膜中點彈性系數的影響。
  2.工藝路線方面,結合實驗室現有條件和設備,探索出Si

3、C矩形膜的加工工藝。本文以TMAH溶液進行腐蝕腐蝕加工,成功制備兩塊SiC矩形膜。
  3.矩形膜彈性系數及SiC楊氏模量測量方面,用AFM測量計算得到了SiC薄膜下的楊氏模量和矩形膜中點的彈性系數。首先用該種方法測量Si的楊氏模量,證明該方法的可靠性。測得Si(100)的楊氏模量為141.9GPa,與Si(100)的楊氏模量標準值130GPa相差很小,證明了這種方法是可靠的。測得兩塊SiC膜的楊氏模量分別為79.7±10.60G

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