13nm Mo-Si多層膜殘余應力研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、作者首次在國內開展了13nm Mo/Si多層膜殘余應力的研究工作.首先從材料在極紫外、軟X射線波段的光學特性出發(fā),討論了極紫外、軟X射線在理想和非理想多層膜系中的反射特性;研究了影響極紫外、軟X射線多層膜反射率的表面粗糙度的空間頻率范圍;重點探討了多層膜殘余應力的典型模型、應力形成機制以及薄膜的形成過程.研究了Mo、Si單層膜的應力狀態(tài);采用磁控濺射法在超光滑Si基底上制備了Mo、Si單層膜,利用ZYGO干涉儀對其進行應力檢測,檢測結果

2、表明:在13nm Mo/Si多層膜中,Mo單層膜表現(xiàn)為張應力,Si單層膜表現(xiàn)為壓應力.重點研究了多層膜的殘余應力控制技術;通過對單層膜以及多層膜的應力狀態(tài)分析,得出應力主要是由膜層之間的貫穿擴散引起的.實驗發(fā)現(xiàn),通過改變多層膜兩種材料的比率Г、改變Ar氣工作氣壓等方法,可以在一定程度上補償因貫穿擴散產生的壓應力,而采用同時改變比率Г和Ar氣工作氣壓可以控制多層膜中殘余應力.利用上述方法制備出了具有13Mpa張應力的Mo/Si多層膜.本文

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