3,4-乙撐二氧噻吩的合成工藝研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、聚噻吩及其衍生物具有良好的導電性、穩(wěn)定性以及可見光透射率等特性,因而在導電高分子材料領域備受關注.其中,聚乙撐二氧噻吩(PEDOT)的工業(yè)應用最為廣泛.作為其單體,乙撐二氧噻吩(EDOT)的合成工藝研究也日益受到重視. 本文介紹了PEDOT的研究進展及工業(yè)應用,特別對單體EDOT的合成方法進行了綜述,在經(jīng)典的"五步法"工藝路線基礎上,對重要中間體的合成工藝進行了優(yōu)化和改進.工藝條件如下: 1.以氯乙酸乙酯與硫化鈉反應合成

2、了中間體硫代二甘酸二乙酯,首次選擇環(huán)己烷的溶劑體系,較好解決了原料氯乙酸乙酯遇強堿性硫化鈉的水解問題,使該反應收率提高到80.6﹪,GC分析產品純度大于98﹪,環(huán)己烷回收率達81.3﹪; 2.采用較成熟的Hinsberg工藝,由硫代二甘酸二乙酯和草酸二乙酯經(jīng)催化合成了2,5.二羧酸二乙酯-3,4-二羥基鈉噻吩,產品收率達93.2﹪; 3.中間體2,5-二羧酸二乙酯-3,4-乙撐二氧噻吩的合成過程中,以三乙胺代替?zhèn)鹘y(tǒng)的碳酸

3、鉀/四丁基溴化銨,縮短了反應時間,提高了反應的選擇性,并用更廉價易得的二氯乙烷替代二溴乙烷,產品收率70.4﹪,溶劑DMF回收率為84.0﹪; 4.中間體2,5-二羧基-3,4-乙撐二氧噻吩由其對應的酯在10﹪的NaOH溶液中水解、酸化得到,收率為80.4﹪; 5.改進了合成目標產品EDOT的脫羧反應體系.針對脫羧反應需要較高的反應溫度,采用NaCl/AlCl<,3>熔鹽體系替代高沸點有機溶劑,成本低、污染少,后處理過程

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