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文檔簡介
1、碩士學位論文CHFJAr介質阻擋放電等離子體中CF2基團數(shù)密度的光譜診斷研究SpectroscopyDiagnosticsofCF2RumberdensityinCHF3／ArDielectricBarrierDischargePlasma學號：21102012大連理工大學DalianUniversityofTechnology摘要本論文設計了用于診斷低氣壓CHF3／Ar介質阻擋放電等離子體中CF2基團粒子數(shù)密度的光譜測量裝置，并分別利
2、用吸收光譜法和發(fā)射光譜內標法對CHF3／At介質阻擋放電等離子體中CF2基團的粒子數(shù)密度進行了測量，考察了放電功率、氣壓、電極間距以及CHF3濃度對CF2基團粒子數(shù)密度的影響。同時也對在實驗條件范圍內，發(fā)射光譜內標法的適用性和可信性進行了討論。主要得到以下結論：在氣壓260380Pa范圍內，CF2的粒子數(shù)密度在CHF3濃度分別為20％／50％／65％時，都隨氣壓的升高而增大；在放電功率為518W范圍內，CF2粒子數(shù)密度會隨放電功率的增大
3、而增大；在CHF3濃度為10％75％范圍內，CF2粒子數(shù)密度隨CHF3濃度的增大而增大；在電極間距為48lnm范圍內，吸收光譜法測得CF2粒子數(shù)密度隨電極間距的增大而降低，而由發(fā)射光譜內標法測得的CF2粒子數(shù)密度隨電極間距的增大而增大。在實驗考查的條件范圍內，在電極間距不變的情況下，利用吸收光譜法和發(fā)射光譜內標法測得的CF2基團的粒子數(shù)密度隨氣壓、放電功率以及CHF3濃度的變化規(guī)律一致，是因為在實驗考察的條件范圍內，電子能量分布函數(shù)基本
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