

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、VO2作為具有典型的金屬-絕緣體相變特性的金屬氧化物被廣為人知。在不同溫度下展現(xiàn)不同的晶相。M1在室溫下呈現(xiàn)單斜結構,空間群為P21/c。在溫度接近340K時,結構發(fā)生一個可逆的一級相變,形成四方金紅石結構的R相,空間群為P42/mnm。半世紀前,F(xiàn).J.Morin證明了340K時VO2電阻率有兩個數(shù)量級的跳變,即為金屬-絕緣體轉變(MIT)。Goodenough提出了相變能級理論,支持MIT是結構驅動的Peierls相變。直到 M2相
2、的發(fā)現(xiàn),證明 MIT并不是純結構驅動的相變。Wentzcovitch認為VO2的MIT相變是電子-電子相互作用驅動的Mott絕緣體相變。如今大多數(shù)認可VO2的金屬-絕緣體轉變(MIT)是結構和電子關聯(lián)共同驅動的結果。在 VO2摻雜濃度為1-10個百分點的Cr,F(xiàn)e時,會產生穩(wěn)定存在的單斜絕緣相M2(空間群為C2/m)和三斜絕緣相T,它是M1和M2的中間相。亦或通過在控制純VO2的單軸張力獲得這3種絕緣相。在VO2摻雜Cr的研究中,它展現(xiàn)
3、出顯著不同于各相的VO2的物理特性。
近幾十年來,作為同樣具有多絕緣相的Fe摻雜的VO2,被公布的信息要比前者少得多。J.Pebler通過57Fe的穆斯堡爾效應研究了摻雜各濃度下的V1-xFexO2的相分布并給出了晶體相圖。從Koji Kosuge通過57Fe的穆斯堡爾效應和V1-xFexO2的磁電性質研究中,我們對不同F(xiàn)e摻雜濃度的VO2產生了興趣,并對摻雜濃度在0.01≤x≤0.05范圍內的材料做了詳細的研究。
4、基于實驗室的制備條件和現(xiàn)有思路,我們嘗試了多種實驗方法來制備純相的二氧化釩樣品。期間,克服引入不同價態(tài)的釩氧化物雜質是一大難題。最后,我們通過水熱合成法和固相合成法成功制備出了純相的VO2(M)和不同摻雜濃度的V1-xFexO2。本文主要描述了不同F(xiàn)e摻雜濃度給VO2(M)的晶體結構、相變和磁性質帶來的影響。通過樣品的XRD測量,我們確定了在0.01≤x≤0.05范圍內摻雜Fe的VO2均為純M2相;和預期結果一樣,未摻雜的VO2為M1相
5、。與此同時,F(xiàn)e元素的摻雜同時改變了 VO2的晶體結構。摻雜濃度的不同會導致晶格常數(shù)的變化。我們通過 PPMS的磁測量,得出了 V1-xFexO2的磁化率隨溫度的變化曲線,在0.01≤x≤0.04階段, V1-xFexO2經歷的相變?yōu)門-M2-R相變。引人注意的是,V1-xFexO2(x=0.05)的相變中不存在T相。Fe摻雜對VO2的金屬絕緣體相變前后量級的變化有抑制作用。我們控制外加磁場,測量了樣品磁化率隨外加磁場的變化關系(M-T
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- VO2外延薄膜各向異性金屬-絕緣體轉變的調控研究.pdf
- 氧化釩薄膜金屬-絕緣體相變特性研究.pdf
- 鎢鉬摻雜VO2粉體及薄膜制備研究.pdf
- VO2外延薄膜的制備和相變機理研究.pdf
- 離子摻雜VO2薄膜制備及熱致相變性能研究.pdf
- 電場觸發(fā)VO2薄膜相變機理研究.pdf
- 低相變溫度VO2薄膜的制備.pdf
- 摻雜與厚度對薄膜VO2相變特性的影響.pdf
- VO2相變薄膜的制備和應用研究.pdf
- VO2外延薄膜的相變調控研究.pdf
- VO2制作工藝與相變特性研究.pdf
- 摻雜拓撲絕緣體的輸運和磁性研究.pdf
- 拓撲絕緣體及其性質的研究.pdf
- 半導體,金屬合金,拓撲絕緣體和半金屬的表面和界面電子性質研究.pdf
- 拓撲絕緣體和磁性拓撲絕緣體的電子結構研究.pdf
- 10024.金屬絕緣體金屬半導體結構的電學性質研究
- 安德森拓撲絕緣體的輸運性質研究.pdf
- 濺射氧化耦合法合成W摻雜VO2納米薄膜及其性質的研究.pdf
- 鐵磁金屬-金屬-絕緣體顆粒膜中的相分離、晶化過程和巨磁電阻.pdf
- VO2粉體的制備方法和晶相控制.pdf
評論
0/150
提交評論