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文檔簡(jiǎn)介
1、隨著硅芯片加工工藝進(jìn)入30納米以下,傳統(tǒng)的CMOS工藝將日趨極限,基于新材料發(fā)展出具有量子效應(yīng)的電子器件,已成為21世紀(jì)科學(xué)研究的熱點(diǎn)和趨勢(shì)。2004年單層石墨的發(fā)現(xiàn)引領(lǐng)了該領(lǐng)域研究的一場(chǎng)新浪潮。這種標(biāo)準(zhǔn)的二維材料顯示出優(yōu)異的晶體結(jié)構(gòu)及良好的電學(xué)性質(zhì),基于單層石墨的碳基集成電路有望通過(guò)改進(jìn)的刻蝕技術(shù)得以實(shí)現(xiàn)。此外單層石墨中的準(zhǔn)粒子服從相對(duì)論狄拉克方程,而不是傳統(tǒng)半導(dǎo)體所遵循的薛定諤方程,這就為利用這種二維平面凝聚態(tài)的材料來(lái)研究量子電動(dòng)力
2、學(xué)提供了可能。 第一章簡(jiǎn)要介紹了一下現(xiàn)有硅工藝的局限性,碳納米管的發(fā)現(xiàn)及應(yīng)用,單層石墨的發(fā)現(xiàn)及單層石墨中奇特的無(wú)質(zhì)量狄拉克費(fèi)米子,以及現(xiàn)有制備單層石墨的方案。 第二章利用緊束縛近似的模型,解析求解了單層及有限層石墨π軌道的本征態(tài)和本征值,進(jìn)而構(gòu)造出其相應(yīng)的傳播子(實(shí)空間格林函數(shù))。在有效質(zhì)量的框架下,單層及有限層石墨實(shí)空間格林函數(shù)可以解析的表達(dá)為空間各向同性和空間各向異性兩部分的乘積。其中各向同性的部分僅依賴于兩個(gè)碳原子
3、之間的相對(duì)距離,而各向異性部分由正旋和余旋函數(shù)決定,具有120°的對(duì)稱性。利用得到的格林函數(shù)的解析表達(dá)式,結(jié)合Dyson方程,模擬了單層石墨上單個(gè)雜質(zhì)和多雜質(zhì)構(gòu)成的量子?xùn)艡?,雙層石墨上單個(gè)、多個(gè)空位缺陷以及長(zhǎng)、短程勢(shì)的掃描隧道顯微鏡圖像。結(jié)果表明當(dāng)雜質(zhì)不破壞石墨表面固有的對(duì)稱性時(shí),其相應(yīng)的掃描隧道顯微鏡圖像都呈現(xiàn)出120°的對(duì)稱性。通過(guò)研究多層石墨表面電子結(jié)構(gòu)隨層數(shù)的衍化,進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)雙層石墨的表面電子結(jié)構(gòu)可近似由多層石墨來(lái)反映,這就為實(shí)
4、驗(yàn)上通過(guò)體材料石墨樣品來(lái)定性研究雙層石墨表面電子結(jié)構(gòu)提供了可能。 第三章在緊束縛近似的框架下,通過(guò)朗道模型研究了單層石墨條帶在彈道區(qū)的輸運(yùn)性質(zhì),并利用新穎的物理現(xiàn)象設(shè)計(jì)出多種量子器件。設(shè)計(jì)的器件包括: 1、Z形的量子點(diǎn)器件。將扶手椅形和鋸齒形石墨條帶接在一起形成半導(dǎo)體/金屬/半導(dǎo)體的異質(zhì)結(jié),量子點(diǎn)可以被束縛在金屬部分。同時(shí)該結(jié)構(gòu)具有很好的抗擾動(dòng)性,不會(huì)由于雜質(zhì)、襯底和邊界破損的影響而破壞量子點(diǎn)的存在。 2、鋸齒形
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