簡(jiǎn)介：1旅游電子商務(wù)教學(xué)大綱旅游電子商務(wù)教學(xué)大綱（ELECTRONICCOMMERCE）一、課程基本信息一、課程基本信息1、課程類別專業(yè)核心課2、課程學(xué)時(shí)54學(xué)時(shí)3、學(xué)分3學(xué)分4、適用專業(yè)旅游管理5、考核方式考試6、大綱執(zhí)筆會(huì)展經(jīng)濟(jì)教研組7、制定時(shí)間2007年5月制定，2010年1月修訂。二、課程教學(xué)目的二、課程教學(xué)目的本課程教學(xué)達(dá)到如下目的1本課程面向教育部頒布的新的學(xué)科專業(yè)調(diào)整方案和本科建設(shè)目標(biāo)，緊扣電子商務(wù)理念、INTERNET技術(shù)、旅游產(chǎn)業(yè)核心競(jìng)爭(zhēng)力和創(chuàng)新力等主題，以旅游企業(yè)過程重組為主旋律,從旅游企業(yè)戰(zhàn)略的角度和旅游業(yè)應(yīng)用的角度出發(fā)，強(qiáng)調(diào)對(duì)學(xué)生分析、管理以及行業(yè)應(yīng)用能力的培養(yǎng),強(qiáng)調(diào)利用旅游電子商務(wù)知識(shí)和技能去解決實(shí)際問題的能力的培養(yǎng),強(qiáng)調(diào)對(duì)學(xué)生自學(xué)能力的培養(yǎng),強(qiáng)調(diào)培養(yǎng)“學(xué)術(shù)型”與“應(yīng)用型”相結(jié)合的專業(yè)人才。教材共十一章，分電子商務(wù)導(dǎo)論、技術(shù)基礎(chǔ)和應(yīng)用實(shí)務(wù)三個(gè)部分，整合旅游電子商務(wù)技術(shù)、應(yīng)用與管理為一體。全書以扎實(shí)的理論為基礎(chǔ)，注重應(yīng)用；強(qiáng)調(diào)體系化，又貼近當(dāng)前形勢(shì)；案例經(jīng)典、實(shí)際又富有創(chuàng)新，涵蓋內(nèi)容全面。2本課程以旅游電子商務(wù)技術(shù)應(yīng)用與管理的結(jié)合為主線,從旅游電子商務(wù)的基本概念介紹入手,引出旅游電子商務(wù)導(dǎo)論,進(jìn)而介紹旅游電子商務(wù)的技術(shù)基礎(chǔ),最后給出旅游電子商務(wù)的應(yīng)用,將旅游電子商務(wù)技術(shù)應(yīng)用與管理整合為一體3在教學(xué)內(nèi)容上偏向應(yīng)用理論,以利于學(xué)生掌握理解旅游電子商務(wù)理論為前提通過提供理解旅游電子商務(wù)所必需的理論基礎(chǔ)知識(shí),力求幫助學(xué)生提高分析問題解決問題的能力4旅游電子商務(wù)涉及技術(shù)和管理兩大系列的內(nèi)容。本課程圍繞這兩條主線而展開教學(xué)，力求從旅游管理角度論述旅游電子商務(wù)基本理論，對(duì)電子商務(wù)技術(shù)的理論及其發(fā)展以及技術(shù)自身的定位并不多做論述,只強(qiáng)調(diào)技術(shù)的實(shí)用性,內(nèi)容重點(diǎn)放在旅游電子商務(wù)的應(yīng)用和具體實(shí)施方面計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)與軟件技術(shù)無疑是旅游電子商務(wù)的技術(shù)基礎(chǔ),同時(shí)旅游電子商務(wù)經(jīng)濟(jì)的蓬勃發(fā)展又推動(dòng)并形成了新一代的旅游電子商務(wù)應(yīng)用技術(shù)。5旅游電子商務(wù)是一門基于電子信息技術(shù)與商務(wù)的邊緣性課程，又是一門專業(yè)基礎(chǔ)課，需計(jì)算機(jī)文化基礎(chǔ)和技術(shù)基礎(chǔ)，以及經(jīng)濟(jì)學(xué)和管理學(xué)作為先修課程。通過電子商務(wù)課程的學(xué)習(xí)，使學(xué)生一方面掌握電子商務(wù)的基本概念、基本理論，另一方面掌握從事電子商務(wù)活動(dòng)的基本技能。本課程采取結(jié)構(gòu)化的方法，提出“旅游電子商務(wù)體系”這一建構(gòu)并對(duì)之進(jìn)行多視角分析當(dāng)然，結(jié)構(gòu)是建構(gòu)的，也是可以解構(gòu)的．任何建構(gòu)出來的體系都會(huì)遭遇到解構(gòu)的考驗(yàn)。人在實(shí)踐中不斷地建構(gòu)、肯定、豐富自己，又不斷地修正、革新和解構(gòu)，正是建構(gòu)和解構(gòu)的張力推動(dòng)著產(chǎn)業(yè)實(shí)踐和研究實(shí)踐的發(fā)展。而在分析電子商務(wù)如何影響旅游市場(chǎng)結(jié)構(gòu)、產(chǎn)業(yè)和企業(yè)組織結(jié)構(gòu)等系列問題時(shí)，本課程教材提供了基于經(jīng)濟(jì)學(xué)的分析框架在被交錯(cuò)力量推動(dòng)的產(chǎn)業(yè)實(shí)踐中，提供指導(dǎo)學(xué)生綜合思考現(xiàn)象及發(fā)展趨勢(shì)的分析框架往往比下定論更為科學(xué)。力圖向?qū)W生介紹對(duì)旅游電子商務(wù)的系統(tǒng)性認(rèn)識(shí)方法和認(rèn)識(shí)成果，3理解旅游電子商務(wù)平臺(tái)的運(yùn)作、旅游企業(yè)電子商務(wù)網(wǎng)站建設(shè)，掌握旅游目的地信息系統(tǒng)應(yīng)用。第一節(jié)旅游電子商務(wù)網(wǎng)站簡(jiǎn)述第二節(jié)旅游電子商務(wù)構(gòu)建第三節(jié)電子商務(wù)網(wǎng)站的邏輯模式與實(shí)體模式第四節(jié)旅游電子商務(wù)網(wǎng)站開發(fā)方式的選擇第五節(jié)旅游電子商務(wù)應(yīng)用和基礎(chǔ)設(shè)施第六節(jié)旅游信息門戶網(wǎng)站C虛擬旅游與虛擬社區(qū)第七節(jié)虛擬旅游企業(yè)重點(diǎn)計(jì)算機(jī)預(yù)訂系統(tǒng)（重點(diǎn)計(jì)算機(jī)預(yù)訂系統(tǒng)（CRS）和全球分銷系統(tǒng)（）和全球分銷系統(tǒng)（GDS）難點(diǎn)旅游目的地信息系統(tǒng)難點(diǎn)旅游目的地信息系統(tǒng)第五章第五章旅游電子商務(wù)支付系統(tǒng)旅游電子商務(wù)支付系統(tǒng)4學(xué)時(shí)學(xué)時(shí)教學(xué)內(nèi)容教學(xué)內(nèi)容理解電子商務(wù)與旅游消費(fèi)的支付系統(tǒng)基本概念，熟悉和掌握電子商務(wù)與旅游市場(chǎng)支付概念。第一節(jié)電子支付系統(tǒng)概述第二節(jié)電子貨幣第三節(jié)數(shù)字錢包第四節(jié)移動(dòng)支付第五節(jié)網(wǎng)絡(luò)銀行重點(diǎn)電子商務(wù)與旅游服務(wù)支付提供重點(diǎn)電子商務(wù)與旅游服務(wù)支付提供難點(diǎn)電子商務(wù)與旅游市場(chǎng)與網(wǎng)上銀行系統(tǒng)難點(diǎn)電子商務(wù)與旅游市場(chǎng)與網(wǎng)上銀行系統(tǒng)第六章第六章旅游電子商務(wù)的安全旅游電子商務(wù)的安全4小時(shí)小時(shí)教學(xué)內(nèi)容教學(xué)內(nèi)容理解網(wǎng)絡(luò)經(jīng)濟(jì)、旅游電子商務(wù)的安全發(fā)展環(huán)境，了解電子商務(wù)與旅游市場(chǎng)交易安全。第一節(jié)旅游電子商務(wù)的安全概述第二節(jié)電子商務(wù)安全技術(shù)第三節(jié)電子商務(wù)的安全協(xié)議與標(biāo)準(zhǔn)重點(diǎn)重點(diǎn)電子商務(wù)與旅游產(chǎn)業(yè)和企業(yè)組織結(jié)構(gòu)在電子商務(wù)活動(dòng)中的安全電子商務(wù)與旅游產(chǎn)業(yè)和企業(yè)組織結(jié)構(gòu)在電子商務(wù)活動(dòng)中的安全難點(diǎn)難點(diǎn)旅游電子商務(wù)交易安全在旅游電子商務(wù)與旅游業(yè)集合競(jìng)爭(zhēng)力中起的作用旅游電子商務(wù)交易安全在旅游電子商務(wù)與旅游業(yè)集合競(jìng)爭(zhēng)力中起的作用第七章第七章旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售4小時(shí)小時(shí)教學(xué)內(nèi)容教學(xué)內(nèi)容理解旅游企業(yè)信息化及旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售，了解旅游企業(yè)電子商務(wù)機(jī)會(huì)甄別流程。第一節(jié)旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售的概述第二節(jié)網(wǎng)上旅游產(chǎn)品與服務(wù)零售業(yè)第三節(jié)非中介化與再中介化的機(jī)會(huì)第四節(jié)網(wǎng)上旅游產(chǎn)品與服務(wù)的電子商務(wù)零售實(shí)例重點(diǎn)旅游企業(yè)產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售重點(diǎn)旅游企業(yè)產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)上零售難點(diǎn)旅游企業(yè)電子商務(wù)機(jī)會(huì)甄別流程難點(diǎn)旅游企業(yè)電子商務(wù)機(jī)會(huì)甄別流程第八章第八章旅行產(chǎn)品與服務(wù)的網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷旅行產(chǎn)品與服務(wù)的網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷4小時(shí)小時(shí)教學(xué)內(nèi)容教學(xué)內(nèi)容掌握旅行產(chǎn)品與服務(wù)的網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷技術(shù)，及營(yíng)銷戰(zhàn)略。第一節(jié)旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷概述第二節(jié)旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷戰(zhàn)略第三節(jié)旅游產(chǎn)品與服務(wù)網(wǎng)絡(luò)營(yíng)銷組合

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簡(jiǎn)介：“微電藝微電藝”復(fù)“微電微電子工子工藝”復(fù)習(xí)微固學(xué)院鄧小川微固學(xué)院鄧小川DTD1XCDENGUESTCEDUCN課程總體介紹課程總體介紹課程總體介紹課程總體介紹二教學(xué)內(nèi)容和要求教學(xué)內(nèi)容和要求二、教學(xué)內(nèi)容和要求教學(xué)內(nèi)容和要求?理論教學(xué)理論教學(xué)（32學(xué)時(shí)學(xué)時(shí)）?理論教學(xué)理論教學(xué)（32學(xué)時(shí)學(xué)時(shí)）；）；系統(tǒng)學(xué)習(xí)硅集成電路平面工藝，包括硅片制備、氧系統(tǒng)學(xué)習(xí)硅集成電路平面工藝，包括硅片制備、氧化、淀積、光刻、刻蝕、離子注入、金屬化、化學(xué)機(jī)化、淀積、光刻、刻蝕、離子注入、金屬化、化學(xué)機(jī)械平坦化等各工藝的基本原理和方法械平坦化等各工藝的基本原理和方法械平坦化等各工藝的基本原理和方法械平坦化等各工藝的基本原理和方法。?實(shí)驗(yàn)教學(xué)（實(shí)驗(yàn)教學(xué)（16學(xué)時(shí)）學(xué)時(shí)）熟悉基本的半導(dǎo)體工藝（清洗、氧化以及光刻）；熟悉基本的半導(dǎo)體工藝（清洗、氧化以及光刻）；晶體管器件參數(shù)測(cè)試方法晶體管器件參數(shù)測(cè)試方法；版圖版圖EDA工具工具LEDIT的使用的使用。3晶體管器件參數(shù)測(cè)試方法晶體管器件參數(shù)測(cè)試方法；版圖版圖EDA工具工具LEDIT的使用的使用。

簡(jiǎn)介：微電子工藝學(xué)第一章緒論第一章緒論第二章現(xiàn)代第二章現(xiàn)代CMOS工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備第四章第四章加工環(huán)境與基片清洗加工環(huán)境與基片清洗第四章第四章加工環(huán)境與基片清洗加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第十章刻蝕第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章第十一章后段工藝與集成后段工藝與集成1第十一章第十一章后段工藝與集成后段工藝與集成1摻雜在微電子器件中的應(yīng)用摻雜在微電子器件中的應(yīng)用雜質(zhì)固溶度決定雜質(zhì)固溶度決定硅晶格生長(zhǎng)的雜質(zhì)決定硅晶格生長(zhǎng)的雜質(zhì)決定摻入的雜質(zhì)是電活性的，能提供所需的載流子，使許多微結(jié)構(gòu)和器件摻入的雜質(zhì)是電活性的，能提供所需的載流子，使許多微結(jié)構(gòu)和器件得以實(shí)現(xiàn)得以實(shí)現(xiàn)。摻雜的最高極限約摻雜的最高極限約1021ATOMS/CM3，最低最低1013ATOMS/CM3。晶片器件作用雜質(zhì)晶片器件作用雜質(zhì)隱埋區(qū)隱埋區(qū)SB,AS得以實(shí)現(xiàn)得以實(shí)現(xiàn)。摻雜的最高極限約摻雜的最高極限約，最低最低。硅雙極型晶體管及其雙極型晶體管及其IC隱埋區(qū)隱埋區(qū),隔離區(qū)隔離區(qū)B,AL基區(qū)基區(qū)B,P發(fā)射區(qū)發(fā)射區(qū)PASPASB硅發(fā)射區(qū)發(fā)射區(qū)P,AS,PAS,B電阻電阻BP開關(guān)管及高速開關(guān)管及高速IC提高開關(guān)速度提高開關(guān)速度AU,PTMOS晶體管及其晶體管及其IC源、漏、溝道、阱源、漏、溝道、阱BP,AS砷化鎵砷化鎵MISIC，結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其，結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其IC半絕緣區(qū)半絕緣區(qū)H,O,CR源、漏ZN,BES,SI,SN3源、漏,,,鍺PNP管集電區(qū)、發(fā)射區(qū)管集電區(qū)、發(fā)射區(qū)INGA,AL

簡(jiǎn)介：1機(jī)械設(shè)計(jì)綜合課程設(shè)計(jì)機(jī)械設(shè)計(jì)綜合課程設(shè)計(jì)機(jī)械設(shè)計(jì)部分機(jī)械設(shè)計(jì)部分設(shè)計(jì)計(jì)算說明書設(shè)計(jì)計(jì)算說明書設(shè)計(jì)題目設(shè)計(jì)題目開槽機(jī)開槽機(jī)設(shè)計(jì)者者徐劍飛徐劍飛學(xué)號(hào)號(hào)2013009320130093專業(yè)班級(jí)專業(yè)班級(jí)機(jī)械機(jī)械工程及自動(dòng)化工程及自動(dòng)化三班指導(dǎo)教師指導(dǎo)教師馬文朋馬文朋完成日期完成日期2016016年6月2424日天津理工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院天津理工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院3一、課程設(shè)計(jì)的任務(wù)一、課程設(shè)計(jì)的任務(wù)1．設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)目的目的課程設(shè)計(jì)是機(jī)械設(shè)計(jì)課程重要的教學(xué)環(huán)節(jié)，是培養(yǎng)學(xué)生機(jī)械設(shè)計(jì)能力的技術(shù)基礎(chǔ)課。課程設(shè)計(jì)的主要目的是1通過課程設(shè)計(jì)使學(xué)生綜合運(yùn)用機(jī)械設(shè)計(jì)課程及有關(guān)先修課程的知識(shí)，起到鞏固、深化、融會(huì)貫通及擴(kuò)展有關(guān)機(jī)械設(shè)計(jì)方面知識(shí)的作用，樹立正確的設(shè)計(jì)思想。2通過課程設(shè)計(jì)的實(shí)踐，培養(yǎng)學(xué)生分析和解決工程實(shí)際問題的能力，使學(xué)生掌握機(jī)械零件、機(jī)械傳動(dòng)裝置或簡(jiǎn)單機(jī)械的一般設(shè)計(jì)方法和步驟。3提高學(xué)生的有關(guān)設(shè)計(jì)能力，如計(jì)算能力、繪圖能力以及計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)CAD能力等，使學(xué)生熟悉設(shè)計(jì)資料手冊(cè)、圖冊(cè)等的使用，掌握經(jīng)驗(yàn)估算等機(jī)械設(shè)計(jì)的基本技能。2．設(shè)計(jì)題目設(shè)計(jì)題目1題目開槽機(jī)2用途開槽機(jī)在印刷行業(yè)中是一種常見的機(jī)器。3原始數(shù)據(jù)說明（1）工作條件2班制，工作環(huán)境良好，有輕微振動(dòng)；（2）使用期限十年，大修期三年；（3）生產(chǎn)批量小批量生產(chǎn)（20臺(tái)）；采用Y型電動(dòng)機(jī)驅(qū)動(dòng)。（4）傳動(dòng)裝置部分簡(jiǎn)圖3、設(shè)計(jì)任務(wù)、設(shè)計(jì)任務(wù)1總體設(shè)計(jì)計(jì)算①選擇電動(dòng)型號(hào)序號(hào)執(zhí)行機(jī)構(gòu)輸入轉(zhuǎn)速NR/S執(zhí)行機(jī)構(gòu)輸入功率KW158128

簡(jiǎn)介：第一章緒論第二章現(xiàn)代第一章緒論第二章現(xiàn)代CMOS工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成1微電子工藝學(xué)41概述概述隨著器件尺寸縮小，污染控制的重要性不斷增加隨著器件尺寸縮小，污染控制的重要性不斷增加3ITRSROADMAP保證保證90成品率所必需成品率所必需局部光散射柵氧化層完整性局部光散射柵氧化層完整性????12

簡(jiǎn)介：第一章緒論第二章現(xiàn)代第一章緒論第二章現(xiàn)代CMOS工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成1微電子工藝學(xué)1HASPECTRATIOARWNOTETHEASPECTRATIOSANDTHENEEDFORNEWMATERIALSNOTEALSOTHENUMBEROFMETALLAYERSREQUIRINGMOREDEPOSITIONSTEPSYEAROFPRODUCTION199820002002200420072010201320162018TECHNOLOGYNODEHALFPITCH250NM180NM130NM90NM65NM45NM32NM22NM18NMMPUPRINTEDGATELENGTH100NM70NM53NM35NM25NM18NM13NM10NMMINMETAL1PITCHNM214152108765442WIRINGLEVELSLOGIC101112121414METAL1ASPECTRATIOCU171718192020CONTACTASPECTRATIODRAM151620202020STITRENCHASPECTRATIO48597910314164METALRESISTIVITY祇HMCM33,222222222222222222INTERLEVELDIELECTRICCONSTANT393737272421191717METALLINEACONTACTHOLEBWHWH3↑WITHFEATURESIZE↓INICS

簡(jiǎn)介：義務(wù)教育教科書數(shù)學(xué)班級(jí)姓名一年級(jí)下冊(cè)孫麗谷王林主編還剩多少個(gè)139（個(gè)）20以內(nèi)的退位減法我買9個(gè)。113個(gè)9加（4）得13，13減9得4。個(gè)先減去3個(gè)，再減去6個(gè)。你喜歡哪種方法我買9個(gè)。從10個(gè)里減去9個(gè)1

簡(jiǎn)介：第一章緒論第二章現(xiàn)代第一章緒論第二章現(xiàn)代CMOS工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備工藝技術(shù)第三章晶體生長(zhǎng)與襯底制備第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第四章加工環(huán)境與基片清洗第五章光刻第六章熱氧化第七章擴(kuò)散摻雜第八章離子注入摻雜第九章薄膜淀積第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成第十章刻蝕第十一章后段工藝與集成1微電子工藝學(xué)1刻蝕速率刻蝕速率RETCHRATE單位時(shí)間的刻蝕厚度，典型值為幾百至幾千單位時(shí)間的刻蝕厚度，典型值為幾百至幾千?/MIN。刻蝕均勻性。刻蝕均勻性ETCHUNIFORMITY個(gè)基片內(nèi)不同地方或幾個(gè)基片之間刻蝕速率變化的百分比個(gè)基片內(nèi)不同地方或幾個(gè)基片之間刻蝕速率變化的百分比選擇性選擇性SSELECTIVITY刻蝕液對(duì)不同材料刻蝕速率的比值刻蝕液對(duì)不同材料刻蝕速率的比值各項(xiàng)異性度各項(xiàng)異性度AFANISOTROPY沿襯底表面橫向與縱向刻蝕速率的差異，沿襯底表面橫向與縱向刻蝕速率的差異，0≤A≤1掩膜層下刻蝕掩膜層下刻蝕UNDERCUT橫向單邊的過腐蝕量橫向單邊的過腐蝕量刻蝕品質(zhì)因素（刻蝕品質(zhì)因素（FIGURESOFMERIT）12RSR3待刻材料的刻蝕速率待刻材料的刻蝕速率待刻材料的刻蝕速率待刻材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率掩膜或下層材料的刻蝕速率LATVER1FRAR?橫向刻蝕速率橫向刻蝕速率橫向刻蝕速率橫向刻蝕速率縱向刻蝕速率縱向刻蝕速率縱向刻蝕速率縱向刻蝕速率

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簡(jiǎn)介：第一單元1新聞兩則人民解放軍百萬大軍橫渡長(zhǎng)江中原我軍解放南陽2蘆花蕩3蠟燭4就英法聯(lián)軍遠(yuǎn)征中國(guó)給巴特勒上尉的信5親愛的爸爸媽媽綜合性學(xué)習(xí)寫作口語交際世界何時(shí)鑄劍為犁第二單元6阿長(zhǎng)與山海經(jīng)7背影8臺(tái)階9老王10信客寫作口語交際綜合性學(xué)習(xí)讓世界充滿愛第三單元11中國(guó)石拱橋12橋之美13蘇州園林14故宮博物院15說“屏”綜合性學(xué)習(xí)寫作口語交際說不盡的橋第四單元16大自然的語言17奇妙的克隆18阿西莫夫短文兩篇恐龍無處不在19生物入侵者20你一定會(huì)聽見的寫作口語交際綜合性學(xué)習(xí)走上辯論臺(tái)第五單元21桃花源記22短文兩篇陋室銘愛蓮說23核舟記24大道之行也25杜甫詩三首望岳春望石壕吏綜合性學(xué)習(xí)寫作口語交際蓮文化的魅力為引題，正題，副題。導(dǎo)語是新聞開頭的第一段或第一句話，它扼要地結(jié)實(shí)新聞的核心內(nèi)容；主體是新聞的軀干，用充足的事實(shí)表現(xiàn)主題，導(dǎo)語內(nèi)容進(jìn)一步擴(kuò)展和闡釋；背景指的是新聞發(fā)生的社會(huì)環(huán)境和自然環(huán)境。背景和節(jié)余有時(shí)可以暗含在主體中。新聞兩則中原我軍解放南陽原文閱讀新華社鄭州1948年11月5日電在人民解放軍偉大的勝利的攻勢(shì)下，南陽守?cái)惩趿柙朴谒娜障挛鐥壋悄咸?，我軍?dāng)即占領(lǐng)南陽。南陽為古宛縣，三國(guó)時(shí)曹操與張繡曾于此城發(fā)生爭(zhēng)奪戰(zhàn)。后漢光武帝劉秀，曾于此地起兵，發(fā)動(dòng)反對(duì)王莽王朝的戰(zhàn)爭(zhēng)，創(chuàng)立了后漢王朝。民間所傳二十八宿，即劉秀的二十八個(gè)主要干部，多是出生于南陽一帶。在過去一年中，蔣介石極重視南陽，曾于此設(shè)立所謂綏靖區(qū)，以王凌云為司令官，企圖阻遏人民解放軍向南發(fā)展的道路。上月，白崇禧使用黃維兵團(tuán)三個(gè)軍的力量，經(jīng)營(yíng)整月，企圖打通信陽、南陽間的運(yùn)輸?shù)缆?，始終未能達(dá)到目的。最近蔣軍因全局?jǐn)模黄葘⒄麄€(gè)南部戰(zhàn)線近百個(gè)師的兵力集中于以徐州為中心和以漢口為中心的兩個(gè)地區(qū)，兩星期前已放棄開封，現(xiàn)又放棄南陽。從此，河南全境，除豫北之新鄉(xiāng)、安陽，豫西之靈寶，閿鄉(xiāng)，豫南之確山、信陽、潢川、光山、商城、固始等地尚有殘敵外，已全部為我解放編者注河南全省共有一百一十一座城市，我已占一○一座，敵僅余十座。去年七月，南線人民解放軍開始向敵后實(shí)行英勇的進(jìn)軍以來，一年多時(shí)間內(nèi)，除殲滅了大量的國(guó)民黨正規(guī)部隊(duì)以外，最大的成績(jī)，就是在大別山區(qū)鄂豫區(qū)、皖西區(qū)、豫西區(qū)、陜南區(qū)、桐柏區(qū)、江漢區(qū)、江淮區(qū)即皖東一帶恢復(fù)和建立了穩(wěn)固的根據(jù)地，創(chuàng)立了七個(gè)軍區(qū)，并極大地?cái)U(kuò)大了豫皖蘇軍區(qū)老根據(jù)地。除江淮軍區(qū)屬于蘇北軍區(qū)管轄外，其余各軍區(qū)，統(tǒng)屬于中原軍區(qū)管轄。豫皖蘇區(qū)、豫西區(qū)、陜南區(qū)、桐柏區(qū)現(xiàn)已聯(lián)成一片，沒有敵人的阻隔。這四個(gè)軍區(qū)并已和華北聯(lián)成一片。我武裝力量，除補(bǔ)上野戰(zhàn)軍和地方軍一年多激烈戰(zhàn)爭(zhēng)的消耗以外，還增加了大約二十萬人左右，今后當(dāng)有更大的發(fā)展。白崇禧經(jīng)常說“不怕共產(chǎn)黨兇，只怕共產(chǎn)黨生根?！彼桥聦?duì)了。我們?cè)谒薪春訚h區(qū)域，不僅是樹木，而且是森林了。不僅生了根，而且枝葉茂盛了。在去年下半年的一個(gè)極短時(shí)間內(nèi)，我們?cè)谶@一區(qū)域曾經(jīng)過早地執(zhí)行分配土地的政策，犯了一些策略上的“左”的錯(cuò)誤。但是隨即糾正了，普遍地利用了抗日時(shí)期的經(jīng)驗(yàn)，執(zhí)行了減租減息的社會(huì)政策和各階層合理負(fù)擔(dān)的財(cái)政政策。這樣，就將一切可能聯(lián)合或中立的社會(huì)階層，均聯(lián)合或中立起來，集中力量反對(duì)國(guó)民黨反動(dòng)統(tǒng)治勢(shì)力及鄉(xiāng)村中為最廣大群眾所痛恨的少數(shù)惡霸分子。這一策略，是明顯地成功了，敵人已經(jīng)完全孤立起來。在我強(qiáng)大的野戰(zhàn)軍和地方軍配合打擊之下，困守各個(gè)孤立據(jù)點(diǎn)內(nèi)的敵人，如像開封、南陽等處，不得不被迫棄城逃竄。南陽守?cái)惩趿柙平y(tǒng)率的軍隊(duì)是第二軍、第六十四軍以及一些民團(tuán)，現(xiàn)向襄陽逃竄。襄陽也是國(guó)民黨的一個(gè)所謂“綏靖區(qū)”，第一任司令官康澤被俘后，接手的是從新疆調(diào)來的宋希濂。最近宋希濂升任了徐州的副總司令兼前線指揮所主任去代替原任的杜聿明。杜聿明則剛從徐州飛到東北，一戰(zhàn)慘敗，又逃到了葫蘆島。王凌云到襄陽，大概是接替宋希濂當(dāng)司令官。但是從南陽到襄陽，并沒有走得多遠(yuǎn)，襄陽還是一個(gè)孤立據(jù)點(diǎn)，王凌云如不再逃，康澤的命運(yùn)是在等著他的。

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