采用挖槽填充工藝的DMOS的雪崩耐量研究.pdf

1、非箝位電感開關過程（UIS）引起的器件失效是 DMOS器件應用過程中最主要的失效形式，雪崩耐量是衡量DMOS器件UIS特性的一個重要參數，提高DMOS的雪崩耐量可以很好解決UIS失效問題，因此，雪崩耐量的研究具有重要的意義。超結DMOS打破了傳統VDMOS結構的“硅極限”，其耐壓和導通電阻的折中關系最好，是電力電子領域相對理想的功率開關器件，基于此，本文重點研究超結DMOS的雪崩耐量問題及提高方法。本文主要內容如下：
　　1、首先

2、介紹了超結結構的原理及其制備工藝，介紹超結DMOS器件的結構、工作原理和DMOS器件雪崩耐量測試原理。利用DMOS器件的相關理論，研究超結 DMOS影響其動態(tài)過程的寄生電容和關斷過程。分析超結 DMOS器件的 UIS失效機理，提出提高其雪崩耐量的方法，包括工藝、版圖和新的器件結構。
　　2、對超結DMOS器件進行結構和版圖的設計。根據工藝線能力，選用合理的工藝流程。采用TCAD軟件TSUPREM4和MEDICI對器件結構進行仿真設

3、計。用版圖繪制軟件 LEDIT進行超結 DMOS的版圖設計。對流片樣品的動靜態(tài)參數和雪崩耐量進行測試，第一次流片結果表明，靜態(tài)參數中耐壓大于650V，雪崩耐量低于5.30mJ。其后通過工藝、版圖等解決辦法，重新進行設計，第二次流片測試結果表明超結DMOS器件的雪崩耐量為2086mJ，可知通過改進設計，雪崩耐量得到了很大的提高。
　　3、提出了一種優(yōu)化了雪崩電流路徑的超結DMOS器件。介紹了該新型超結DMOS器件的結構，提高雪崩耐量